等離子體清洗設(shè)備原理
文章導讀：等離子體清洗設(shè)備是一種用于材料表面清洗、表面活化的設(shè)備，很多人使用過這樣的設(shè)備，但是不了解它的原理以及運行的方式，今天我們就來講講。
等離子體清洗設(shè)備（等離子清洗機）是一種用于材料表面清洗、表面活化的設(shè)備，很多人使用過這樣的設(shè)備，但是不了解它的原理以及運行的方式，今天我們就來講講。
等離子體清洗設(shè)備原理
等離子體清洗設(shè)備是使用等離子體進行表面處理的機器，等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，區(qū)別于固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)；等離子體中有處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
設(shè)備通過放電輝光反應生產(chǎn)等離子體，將它們轟擊物體表面，達到表面清洗的作用；
整個處理過程有物理、化學不同的作用，物理反應就是等離子體撞擊污染物；化學反應是氣體與污染物發(fā)生反應，比如：工藝氣體氧氣與污染物反應生產(chǎn)二氧化碳等等物質(zhì)，真空泵抽離，達到清洗效果；整個反應中，物體表面還會生產(chǎn)活性基團，這些基團將會提高表面的活性、浸潤性、粘接力，有利于后期涂覆、粘接工藝的處理。
以上就是等離子體清洗設(shè)備的工作原理，小伙伴們應該了解它是如何工作了吧，需要的用戶可以聯(lián)系我們進行咨詢哦。
等離子體清洗設(shè)備是使用等離子體進行表面處理的機器，等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，區(qū)別于固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)；等離子體中有處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
整個處理過程有物理、化學不同的作用，物理反應就是等離子體撞擊污染物；化學反應是氣體與污染物發(fā)生反應，比如：工藝氣體氧氣與污染物反應生產(chǎn)二氧化碳等等物質(zhì)，真空泵抽離，達到清洗效果；整個反應中，物體表面還會生產(chǎn)活性基團，這些基團將會提高表面的活性、浸潤性、粘接力，有利于后期涂覆、粘接工藝的處理。
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