普樂(lè)斯推薦

• USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹

  

  產(chǎn)品名稱(chēng)：USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹
  1）能有效去除大于3μm的顆粒
  2）不需要高純水和化學(xué)藥劑等，同時(shí)不需要后續(xù)烘干工藝
  3）設(shè)備維護(hù)簡(jiǎn)單，只需進(jìn)行簡(jiǎn)單的清洗和更換
  4）沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
  5）非接觸式的清洗方式避免損壞工
  6）閉環(huán)系統(tǒng)不會(huì)破壞生產(chǎn)車(chē)間（潔凈室）的氣流平衡

• 小型等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L

  

  產(chǎn)品名稱(chēng)：小型等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L
  ‌實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)‌是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)制造領(lǐng)域。

• 真空等離子清洗機(jī) 等離子表面處理機(jī) 表面處理改性PM-20LN

  

  產(chǎn)品名稱(chēng)：真空等離子清洗機(jī) 等離子表面處理機(jī) 表面處理改性PM-20LN
  真空等離子清洗機(jī)作為一種高效、無(wú)介質(zhì)的表面處理設(shè)備，具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng)，具有高效清洗、無(wú)介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動(dòng)化操作等優(yōu)勢(shì)。

• 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

  

  產(chǎn)品名稱(chēng)：實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L
  

  ‌高效徹底‌：能夠深入微納米級(jí)孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

  ‌環(huán)保節(jié)能‌：無(wú)需使用化學(xué)溶劑，減少?gòu)U水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

  ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

  ‌工藝可控‌：通過(guò)調(diào)整工作氣體種類(lèi)、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過(guò)程‌。

  
  

• 普樂(lè)斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列

  

  產(chǎn)品名稱(chēng)：普樂(lè)斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列
  在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運(yùn)的過(guò)程中，材料表面由于存在靜電，表面會(huì)自帶或吸附微塵，影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高，對(duì)微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無(wú)接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實(shí)施等優(yōu)點(diǎn)，近年 來(lái)在各個(gè)行業(yè)均有較快的發(fā)展。
  

電子行業(yè)

• 某企業(yè)PTFE PCB線路板等離子清洗處理技術(shù)
• 某企業(yè)液晶玻璃蓋板等離子清洗技術(shù)
• 某企業(yè)手機(jī)攝像頭模組等離子清洗技術(shù)

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